[发明专利]用于高密度电感器的薄膜结构和晶片级封装中的重分布无效
申请号: | 201280038455.1 | 申请日: | 2012-08-10 |
公开(公告)号: | CN103718292A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 罗伯特·福西尔;道格拉斯·斯科特 | 申请(专利权)人: | 弗利普芯片国际有限公司 |
主分类号: | H01L25/16 | 分类号: | H01L25/16;H01L23/64 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;张英 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了包括晶片衬底和金属堆叠籽晶层的封装。金属堆叠籽晶层包括钛薄膜外层。提供与金属堆叠籽晶层的钛薄膜外层接触的抗蚀剂层,该抗蚀剂层形成电路。进一步公开了用于制造封装的方法。形成具有钛薄膜外层的金属堆叠籽晶层。形成抗蚀剂层从而与金属堆叠籽晶层的钛薄膜外层接触,并且由抗蚀剂层形成电路。 | ||
搜索关键词: | 用于 高密度 电感器 薄膜 结构 晶片 封装 中的 分布 | ||
【主权项】:
一种封装,包括:晶片衬底;包括钛薄膜外层的金属堆叠籽晶层;以及与所述金属堆叠籽晶层的所述钛薄膜外层接触的抗蚀剂层,所述抗蚀剂层形成电路。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于弗利普芯片国际有限公司,未经弗利普芯片国际有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280038455.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类