[发明专利]用于制造薄层的装置和方法有效
| 申请号： | 201280038501.8 | 申请日： | 2012-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN104080946A | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | C·施密德;D·哈贝尔曼;J·豪恩格斯;C·阿特马;T·斯图尔特;K·普罗文查 | 申请（专利权）人： | 吉布尔·施密德有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/54;C23C16/455;H01L31/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周志明;杨国治 |
| 地址： | 德国弗罗*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于在制造太阳能电池时在衬底上制造薄层的装置，其中，采用APCVD方法在高于250℃的温度情况下敷设薄层，在该装置中，衬底在连续运行中在水平的输送带上被输送，并通过APCVD涂层法被涂层。在此，输送带具有输送轮，所述输送轮由耐热的非金属的材料优选陶瓷。在输送带的背离涂层装置的一侧设置有加热机构和/或喷淋气体供应机构。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 薄层 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在衬底上制造薄层特别是用于制造太阳能电池的装置，带有：‑APCVD涂层装置(13)，用于采用APCVD方法在高于250℃的温度情况下敷设薄层；‑带有输送轮(28)的水平的输送带(27)，用于在连续运行中输送衬底，所述输送轮由耐热的非金属的材料构成；和‑设置在输送带的背离APCVD涂层装置的一侧的加热机构(14)和/或喷淋气体供应机构(34)。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
