[发明专利]用于负型抗蚀剂的可显影底部抗反射涂料组合物在审
申请号: | 201280038940.9 | 申请日: | 2012-08-10 |
公开(公告)号: | CN103733134A | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 陈光荣;S·J·霍姆斯;黄武松;刘森 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/09;C09D133/04 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 夏正东 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种负型可显影底部抗反射涂料(NDBARC)材料包括聚合物,该聚合物含有脂肪族醇部分、芳香族部分以及羧酸部分。NDBARC组合物在涂布及烘烤之后不溶于一般的光刻胶溶剂,如丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)。NDBARC材料也包括光酸产生剂以及选择性的交联化合物。在NDBARC材料中,羧酸提供显影剂溶解性,而醇单独、羧酸单独或其组合提供PGMEA抗性。NDBARC材料对光刻胶溶剂具有抗性,因此,在涂布光刻胶于NDBARC上方的过程中,NDBARC与光刻胶之间不会发生互混。在曝光及烘烤之后,由于负型光刻胶中的聚合物与光刻曝光部分中的NDBARC层之化学增强交联,该负型光刻胶与该NDBARC层之光刻曝光部分皆变成不溶于显影剂。 | ||
搜索关键词: | 用于 负型抗蚀剂 显影 底部 反射 涂料 组合 | ||
【主权项】:
一种用于负型可显影底部抗反射涂料(NDBARC)材料的物质组合物,该物质组合物包含聚合物,该聚合物包括至少一个羧酸部分、至少一个可交联脂肪族醇部分以及至少一个芳香族部分。
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