[发明专利]气体分析装置在审

专利信息
申请号: 201280039440.7 申请日: 2012-08-10
公开(公告)号: CN103733046A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 井户琢也;大西敏和;森哲也 申请(专利权)人: 株式会社堀场制作所
主分类号: G01N21/61 分类号: G01N21/61;G01N21/39
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 李雪春;王维玉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种气体分析装置。气体分析装置(100)包括:一个照射部(2),配置在烟道壁(1a)的外侧;第一反射镜(3),反射从照射部(2)射出且通过试样气体(Sg)的测量光;一个受光部(4),配置在烟道壁(1a)的外侧,接收被第一反射镜(3)反射的测量光;第二反射镜(5),配置在烟道壁(1a)的外侧,向受光部(4)反射测量光;已知物质收容部(6),设置在照射部(2)和第二反射镜(5)之间光路上的空间内,收容已知物质;运算部(7),使用由第一反射镜(3)反射从照射部(2)射出的测量光来分析试样气体(Sg),并且使用由第二反射镜(5)反射从照射部(2)射出的测量光,进行使用已知物质的气体分析装置(100)的修正或校准;以及切换部(8),配置在烟道壁(1a)的外侧,进行成分浓度的分析时使第二反射镜(5)从光路上离开,进行修正或校准时将第二反射镜(5)配置在光路上。
搜索关键词: 气体 分析 装置
【主权项】:
一种气体分析装置,分析在烟道内流动的试样气体中规定成分的浓度,其特征在于,包括:一个照射部,配置在构成所述烟道的壁的外侧,向所述试样气体中照射测量光;第一反射镜,反射从所述照射部射出且通过所述试样气体的测量光;一个受光部,配置在所述照射部的附近且配置在所述壁的外侧,接收被所述第一反射镜反射的测量光;第二反射镜,配置在所述壁的外侧,向所述受光部反射所述测量光;已知物质收容部,设置在所述照射部和所述第二反射镜之间以及所述第二反射镜和所述受光部之间光路上的空间区域内,收容使从所述照射部照射的测量光不衰减或衰减规定量的已知物质;运算部,使用被所述第一反射镜反射的所述测量光来分析所述试样气体的成分浓度,并且使用被所述第二反射镜反射的所述测量光,进行使用所述已知物质的所述气体分析装置的修正和校准中的至少一个;以及切换部,配置在所述壁的外侧,执行所述成分浓度的分析时使所述第二反射镜从所述光路上离开,执行所述修正和所述校准中的至少一个时将所述第二反射镜配置在所述光路上。
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