[发明专利]用于提供等离子流的装置无效

专利信息
申请号: 201280040051.6 申请日: 2012-06-12
公开(公告)号: CN103891416A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: T.B.霍尔贝切 申请(专利权)人: 兰德股份公司
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24;H01J37/32;A61B18/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 肖日松;严志军
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明提供了一种用于在环境大气压力下形成包括用于治疗治疗区的活性种类的气态等离子的装置(10)。该装置包括用于形成用于治疗治疗区的气态等离子的等离子单元(12)。等离子单元包括用于从源(18)接收气体的入口(16)和用于排出单元中生成的活性种类的出口(20)。由聚酰亚胺制成的电介质基底(22)围绕从入口到出口传送的气体的流动通路包围,并且电极(26)形成在电介质基底上用于沿流动通路激励气体以形成活性种类。保护涂层或衬套(32)位于电介质基底(22)的内表面上,用于抵抗等离子单元(12)中生成的活性种类与电介质基底(22)的材料的反应。
搜索关键词: 用于 提供 等离子 装置
【主权项】:
 一种用于在环境大气压力下形成包括用于治疗区的治疗的活性种类的气态等离子的装置,所述装置包括用于形成用于治疗所述治疗区的所述气态等离子的等离子单元,所述等离子单元包括用于从源接收气体的入口和用于排出所述单元中生成的活性种类的出口;电介质基底,所述电介质基底由围绕流动通路包围的聚酰亚胺制成,所述流动通路用于气体从所述入口传送至所述出口;以及电极,所述电极形成在所述电介质基底上,用于激励气体沿所述流动通路形成活性种类,其中,由电介质制成的保护涂层形成在所述电介质基底的内表面上,用于保护所述电介质基底免于与所述活性种类反应。
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