[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201280040076.6 | 申请日： | 2012-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN103765316A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | A·布里克尔;L·德温特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备被提供和配置成将图案化的辐射束投影到衬底（W）上。所述设备包括测量系统，用于提供与衬底上抗蚀剂层（56）的厚度相关的测量数据，和控制器（54），用于控制光刻设备的操作使得将要被投影到衬底上的图案化的辐射束中的辐射强度水平基于测量数据被控制。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，配置成将图案化的辐射束投影到衬底上，所述光刻设备包括：测量系统，配置成提供与衬底上的抗蚀剂层的厚度相关的测量数据；和控制器，配置成控制光刻设备的操作以使得将要被投影到衬底上的图案化的辐射束中的辐射强度水平被基于测量数据来控制。
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