[发明专利]包括反应室内的前体气体炉的沉积系统及相关方法有效
申请号: | 201280040199.X | 申请日: | 2012-07-31 |
公开(公告)号: | CN103732791A | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | R·T·小贝尔特拉姆;M·兰迪斯 | 申请(专利权)人: | SOITEC公司 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/455;C30B25/14;H01L21/205 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;于高瞻 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 沉积系统包括反应室,设置在所述室内用于支撑所述反应室内的基材的基材支撑结构,和用于将一种或多种前体气体注入所述反应室的气体输入系统。所述气体输入系统包括至少部分地设置在所述反应室内的至少一个前体气体炉。沉积材料的方法包括使第一前体气体和第二前体气体分别地流入反应室,使所述第一前体气体流动通过至少一个前体气体流路,所述前体气体流路延伸通过设置在所述反应室内的至少一个前体气体炉,和在所述至少一个前体气体炉内加热所述第一前体气体后,将所述第一前体气体和所述第二前体气体在所述反应室内在基材上方混合。 | ||
搜索关键词: | 包括 反应 室内 气体 沉积 系统 相关 方法 | ||
【主权项】:
一种沉积系统,其包括:至少基本上封闭的反应室,所述反应室通过顶壁、底壁和至少一个侧壁限定;基座,所述基座至少部分地设置在所述反应室内并且被构造成支撑所述反应室内的基材;和气体输入系统,所述气体输入系统用于将一种或多种前体气体注入所述反应室,所述气体输入系统包括设置在所述反应室内的至少一个前体气体炉、延伸通过所述至少一个前体气体炉的至少一个前体气体流路,其中延伸通过所述至少一个前体气体炉的所述至少一个前体气体流路包括具有迂回构造的至少一部分,且其中所述至少一个前体气体流路具有被构造成提供流动通过所述至少一个流路的一种或多种前体气体的层流的至少一部分。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的