[发明专利]光反应性化合物有效

专利信息
申请号: 201280041296.0 申请日: 2012-08-07
公开(公告)号: CN103748192A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: F·林克尔;I·布里·S·皮雷斯;S·沙佩莱;P·斯坎迪乌希德弗雷塔斯;M·伊本-埃尔哈吉;唐谦;S·帕利卡;星野政人;J-F·埃克特 申请(专利权)人: 罗利克有限公司
主分类号: C09K19/56 分类号: C09K19/56
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张钦
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 发明涉及尤其可用于定向液晶用材料的光反应性化合物。
搜索关键词: 光反应 化合物
【主权项】:
1.含下式(I)的末端基团的化合物:其中:A1和A2各自独立地为5-40个原子的环体系,其中每一环体系包括借助电子共轭(π-π键接)直接连接到式(I)中所示的双键上的至少一个不饱和键;和其中A2通过单键或至少一个间隔基单元连接到可聚合基团上;R1是氢,取代基L,羟基,或直链或支链、取代或未被取代的C1-C12烷基,其中一个或多个C-原子、CH-或CH2-基未被替代或者被连接基替代;和其中若W是氢和Z是吸电子基团,则R4,R5是氢,以及R2和R3彼此独立地为供电子的单一取代基,或者R2和R3一起形成缩合到环A1上的供电子环的残基;或者若W是氢和Z是吸电子基团,则R4,R5彼此独立地为取代基L,所述取代基L是卤素,羟基和/或极性基团;或者供电子的单一取代基,或者R4,R5一起形成缩合到环A2上的供电子环的残基;则R2和R3一起形成缩合到环A1上的供电子环的残基;或者若W是吸电子基团和Z是氢,则R4,R5彼此独立地为氢,取代基L,供电子的单一取代基,或者R4,R5一起形成缩合到环A2上的供电子环的残基,或氢,以及R2和R3彼此独立地为供电子的单一取代基,或者一起形成缩合到环A1上的供电子环的残基。
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