[发明专利]带凹凸结构膜的玻璃基板的使用干式蚀刻的制造方法、带凹凸结构膜的玻璃基板、太阳能电池及太阳能电池的制造方法有效

专利信息
申请号: 201280042015.3 申请日: 2012-08-29
公开(公告)号: CN103765603A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 寺前文晴;难波江宏一;北野司;近藤俊行;铃木敦志;森绿 申请(专利权)人: 崇高种子公司
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04;H01L31/0216;H01L31/20;C03C17/34
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张劲松
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供通过干式蚀刻精度良好地赋予微细的凹凸结构的带凹凸结构膜的玻璃基板的使用干式蚀刻的制造方法、带凹凸结构膜的玻璃基板、太阳能电池及太阳能电池的制造方法。在对由干式蚀刻时的蒸气压相互不同的多个氧化物构成的玻璃基板赋予凹凸结构时,包括在玻璃基板的平坦的表面形成由单一材料构成的被加工膜的被加工膜形成工序和利用干式蚀刻在被加工膜的表面形成周期性的凹凸结构的凹凸结构形成工序,通过干式蚀刻精度良好地赋予微细的凹凸结构。
搜索关键词: 凹凸 结构 玻璃 使用 蚀刻 制造 方法 太阳能电池
【主权项】:
一种带凹凸结构膜的玻璃基板的使用干式蚀刻的制造方法,包括:被加工膜形成工序,在由干式蚀刻时的蒸气压相互不同的多个氧化物构成的玻璃基板的平坦的表面形成由单一材料构成的被加工膜;凹凸结构形成工序,在所述被加工膜的所述表面,利用干式蚀刻形成周期性的凹凸结构。
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