[发明专利]没有反馈的情况下控制RF施加在审
| 申请号： | 201280042213.X | 申请日： | 2012-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN103765985A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | 阿夫纳·李伯曼 | 申请（专利权）人： | 高知有限公司 |
| 主分类号： | H05B6/64 | 分类号： | H05B6/64 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 白云;王漪 |
| 地址： | 百慕大*** | 国省代码： | 百慕大群岛;BM |
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| 摘要： | 在此披露了一种用于经由至少一个辐射元件向第一能量施加区域中的物体施加电磁能量的设备。该设备可以包括被配置成用于引起该至少一个辐射元件向两个或更多个MSE下的能量施加区域施加能量的至少一个处理器；以及在没有来自该能量施加区域的关于一个MSE相关参数的反馈情况下，基于在该物体被放置在该第一能量施加区域之前在一个第二能量施加区域中能量施加期间已经被收集的数据，调整供应给该至少一个辐射元件的能量以遵循该MSE相关参数的变化。 | ||
| 搜索关键词： | 没有 反馈 情况 控制 rf 施加 | ||
【主权项】：
一种用于经由至少一个辐射元件向第一能量施加区域中的物体施加电磁能量的设备，该设备包括至少一个处理器，被配置成用于：引起该至少一个辐射元件向两个或更多个MSE下的能量施加区域施加能量；以及在没有来自该能量施加区域的关于一个MSE相关参数的反馈情况下，基于在该物体被放置在该第一能量施加区域之前在一个第二能量施加区域中能量施加期间已经被收集的数据，调整供应给该至少一个辐射元件的能量以遵循该MSE相关参数的变化。
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