[发明专利]曝光装置、曝光方法、元件制造方法、程序及记录媒体有效

专利信息
申请号: 201280042481.1 申请日: 2012-07-19
公开(公告)号: CN103765555A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 佐藤真路 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;G03F7/20
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 任默闻
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的曝光装置是通过液体以曝光用光使基板曝光。曝光装置,具备:具有曝光用光射出的射出面的光学构件、包含将基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部以及用以规定可配置基板的开口且具有在基板被保持于第1保持部保持的状态下配置在基板上面周围的上面的第1构件的基板保持装置、以及至少一部分配置在基板与第1构件间的间隙且具有对液体为拨液性的上面的多孔构件。曝光装置通过多孔构件回收流入间隙的液体的至少一部分。
搜索关键词: 曝光 装置 方法 元件 制造 程序 记录 媒体
【主权项】:
一种曝光装置,其特征在于,通过液体以曝光用光使基板曝光,具备:光学构件,具有所述曝光用光射出的射出面;基板保持装置,包含将所述基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及用以规定可配置所述基板的开口、具有在所述基板被保持于所述第1保持部保持的状态下配置在所述基板的上面周围的上面的第1构件;以及多孔构件,至少一部分配置在所述基板与所述第1构件间的间隙、具有对所述液体为拨液性的上面;通过所述多孔构件回收流入所述间隙的所述液体的至少一部分。
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