[发明专利]干涉式调制器的机械层及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201280043548.3 申请日: 2012-08-30
公开(公告)号: CN103842885A 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 蒲川;陶诣;钱德拉·S·图佩利;科斯塔丁·D·乔尔杰夫;钟帆;何日晖;张文钺 申请(专利权)人: 高通MEMS科技公司
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00;B81B3/00;B81C1/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 孙宝成
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供用于控制可移动层的系统、方法及装置。在一个方面,机电系统装置包含衬底及定位于所述衬底上方以界定间隙的可移动层。所述可移动层可在所述间隙中在致动位置与松弛位置之间移动,且包含镜面层、罩盖层及安置在所述镜面层与所述罩盖层之间的电介质层。所述可移动层经配置以在所述可移动层处于所述松弛位置中时具有远离所述衬底的方向上的曲率。在一些实施方案中,所述可移动层可经形成以具有朝向所述衬底的正应力梯度,所述正应力梯度可在移除牺牲层时引导所述可移动层的所述曲率向上。
搜索关键词: 干涉 调制器 机械 及其 制造 方法
【主权项】:
一种机电系统装置,其包括:衬底;及可移动层,其定位于所述衬底上方,所述可移动层与所述衬底间隔且界定所述可移动层与所述衬底之间的间隙的一侧,其中所述可移动层可在所述间隙中在致动位置与松弛位置之间移动,其中所述可移动层包含镜面层、罩盖层及安置在所述镜面层与所述罩盖层之间的电介质层,所述镜面层面对所述间隙,及其中所述可移动层经配置以当所述可移动层处于所述松弛位置中时具有远离所述衬底的方向上的曲率。
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