[发明专利]滚轧铜箔有效
申请号: | 201280047253.3 | 申请日: | 2012-08-28 |
公开(公告)号: | CN103826765A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 中室嘉一郎;千叶喜宽;大久保光浩;鲛岛大辅;冠和树;青岛一贵 | 申请(专利权)人: | JX日矿日石金属株式会社 |
主分类号: | B21B3/00 | 分类号: | B21B3/00;B21B1/40;C22C9/00;C22C9/02;C22F1/00;C22F1/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 肖日松;李婷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种滚轧铜箔,其使铜箔表面适度地变粗糙以提高处理性,而且弯曲性优秀,并且表面蚀刻特性良好。为一种滚轧铜箔,其中,沿滚轧平行方向测定的表面的60度光泽度(G60RD)为100以上且300以下,在以200℃加热30分钟并调质为再结晶组织的状态下,滚轧面的通过X射线衍射求得的200衍射强度(I)相对于微粉末铜的通过X射线衍射求得的200衍射强度(I0)为20≤I/I0≤40,在于铜箔表面处沿滚轧平行方向长度为175μm,且沿滚轧直角方向分别间隔50μm以上的3条直线上,与油坑的最大深度相当的各直线的厚度方向的最大高度与最小高度之差的平均值(d)与所述铜箔的厚度(t)的比率(d/t)为0.1以下,沿滚轧平行方向测定的表面的60度光泽度(G60RD)与沿滚轧直角方向测定的表面的60度光泽度(G60TD)的比率(G60RD/G60TD)小于0.8。 | ||
搜索关键词: | 铜箔 | ||
【主权项】:
一种滚轧铜箔,其中,沿滚轧平行方向测定的表面的依照JIS‑Z8741的60度光泽度(G60RD)为100以上且300以下,在以200℃加热30分钟并调质为再结晶组织的状态下,滚轧面的通过X射线衍射求得的200衍射强度(I)相对于微粉末铜的通过X射线衍射求得的200衍射强度(I0)为20≤I/I0≤40,在于铜箔表面处沿滚轧平行方向长度为175μm,且沿滚轧直角方向分别间隔50μm以上的3条直线上,与油坑的最大深度相当的各直线的厚度方向的最大高度与最小高度之差的平均值(d)与所述铜箔的厚度(t)的比率(d/t)为0.1以下,沿滚轧平行方向测定的表面的60度光泽度(G60RD)与沿滚轧直角方向测定的表面的依照JIS‑Z8741的60度光泽度(G60TD)的比率(G60RD/G60TD)小于0.8。
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