[发明专利]用于聚合物基底上柔性光电装置的多层薄膜后接触系统无效

专利信息
申请号: 201280047345.1 申请日: 2012-08-10
公开(公告)号: CN103828063A 公开(公告)日: 2014-05-28
发明(设计)人: 劳伦斯·M·伍兹;霍巴特·史蒂文斯;约瑟夫·H·阿姆斯特朗 申请(专利权)人: 阿森特太阳能技术公司
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/0392
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 余朦;王艳春
地址: 美国科*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于光电元件的聚合物基底和后接触结构,并且光电元件包括CIGS光电结构,聚合物基底具有装置侧以及与装置侧相对的背侧,光电元件可位于装置侧。一层电介质在聚合物基底的背侧形成。金属结构在聚合物基底装置侧形成。
搜索关键词: 用于 聚合物 基底 柔性 光电 装置 多层 薄膜 接触 系统
【主权项】:
用于光电元件的聚合物基底和背接触结构,包括:聚合物基底,具有装置侧以及与所述装置侧相对的背侧,其中,所述光电元件可位于所述装置侧;电介质层,在所述聚合物基底的所述背侧形成;以及金属结构,在所述聚合物基底的所述装置侧形成。
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