[发明专利]用于样本阵列的自参考检测与成像的系统和方法在审
| 申请号： | 201280047609.3 | 申请日： | 2012-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN103842799A | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | M.山田;S.迈蒂;S.D.瓦尔塔克;R.兰戈祖;A.帕蒂尔 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G01N21/25 | 分类号： | G01N21/25;G01N21/45;G01N21/552 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 何欣亭;汤春龙 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种用于检测具有可检测样本和至少一个参考样本的样本阵列的系统。该系统包括：电磁辐射源；感测表面，包括多个样本域，其中，所述多个样本域包括至少一个参考域；相位差产生器，配置成导入样本阵列中的一个或更多的样本的路径长度的差异；以及成像光谱仪，配置成对样本阵列中的一个或更多的样本进行成像。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 样本 阵列 参考 检测 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于检测具有可检测样本和至少一个参考样本的样本阵列的系统，包括：电磁辐射源；感测表面，包括多个样本域，其中，所述多个样本域包括至少一个参考域；相位差产生器，配置成导入所述样本阵列中的一个或更多的样本的路径长度的差异；以及成像光谱仪，配置成对所述样本阵列中的一个或更多的样本进行成像。
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