[发明专利]微波处理系统中的等离子体调谐杆

摘要

本发明提供了多个等离子体调谐杆子系统。该等离子体调谐杆子系统可以包括一个或更多个微波腔，该微波腔被配置成通过在等离子体内和/或与等离子体邻近的一个或更多个等离子体调谐杆中产生谐振微波能量，来将期望的电磁（EM）波模式的EM能量耦合到等离子体。一个或更多个微波腔组件可以耦合到处理室，并且可以包括一个或更多个调谐空间/腔。每个调谐空间/腔可以具有与其耦合的一个或更多个等离子体调谐杆。一些等离子体调谐杆可以被配置成将EM能量从一个或更多个谐振腔耦合到处理室内的处理空间，由此在处理空间内产生均匀的等离子体。

主权项

一种用于处理衬底的微波处理系统，包括：矩形处理室，所述矩形处理室包括处理空间，所述处理空间中具有可移动的衬底保持器；第一腔组件，所述第一腔组件利用第一接口组件耦合到所述矩形处理室，所述第一腔组件中具有第一电磁（EM）能量调谐空间，所述第一接口组件包括第一组隔离组件，其中，第一EM能量调谐空间中建立有第一组EM耦合区域；第一组等离子体调谐杆，所述第一组等离子体调谐杆耦合到所述第一组隔离组件，所述第一组等离子体调谐杆具有被配置在所述处理空间中的第一组等离子体调谐部分，以及被配置在所述第一EM能量调谐空间中并且与所述第一组EM耦合区域中的至少之一耦合的第一组EM调谐部分；第二腔组件，所述第二腔组件利用第二接口组件耦合到所述矩形处理室，所述第二腔组件中具有第二EM能量调谐空间，所述第二接口组件包括第二组隔离组件，其中，所述第二EM能量调谐空间中建立有第二组EM耦合区域；第二组等离子体调谐杆，所述第二组等离子体调谐杆耦合到所述第二组隔离组件，所述第二组等离子体调谐杆具有被配置在所述处理空间中的第二组等离子体调谐部分，以及被配置在所述第二EM能量调谐空间中并且与所述第二组EM耦合区域中的至少之一耦合的第二组EM调谐部分；以及控制器，所述控制器耦合到所述第一腔组件和所述第二腔组件，其中，所述控制器被配置成控制所述第一EM能量调谐空间中的所述第一组EM耦合区域以及所述第二EM能量调谐空间中的所述第二组EM耦合区域，由此控制所述处理空间中的等离子体均匀性。