[发明专利]用于在硅衬底中形成扩散区的方法有效

专利信息
申请号: 201280048109.1 申请日: 2012-09-26
公开(公告)号: CN103843159A 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 坎恩·C·伍;史蒂文·M·克拉夫特;保罗·卢斯科托福;史蒂夫·爱德华·莫里萨 申请(专利权)人: 太阳能公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 陈源;顾丽波
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种制造太阳能电池的方法。所述方法包括将耐蚀刻掺杂剂材料沉积到硅衬底上,所述耐蚀刻掺杂剂材料包含掺杂剂源;利用所述耐蚀刻掺杂剂材料的非热固化在所述耐蚀刻掺杂剂材料中形成交联基质;以及将所述硅衬底和所述耐蚀刻掺杂剂材料加热到足够的温度以使所述掺杂剂源扩散到所述硅衬底内。
搜索关键词: 用于 衬底 形成 扩散 方法
【主权项】:
一种制造太阳能电池的方法,所述方法包括:将耐蚀刻掺杂剂材料沉积到硅衬底上,所述耐蚀刻掺杂剂材料包含掺杂剂源;利用所述耐蚀刻掺杂剂材料的非热固化在所述耐蚀刻掺杂剂材料中形成交联基质;以及将所述硅衬底和所述耐蚀刻掺杂剂材料加热到足够的温度以使所述掺杂剂源扩散到所述硅衬底内。
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