[发明专利]图案化的基底的连续湿法蚀刻方法

摘要

本发明提供了一种将基底图案化的方法。该方法包括通过使金属化基底与氧化剂和金属络合剂接触以从未图案化的区域除去金属来在反应容器内湿法蚀刻金属化基底。该方法还包括通过将氧化剂和金属络合剂中的每一种的补料递送到蚀刻剂浴来保持蚀刻剂浴中的氧化剂和金属络合剂的浓度。该方法还包括通过从所述反应容器排出一定量的所述蚀刻剂浴来保持蚀刻剂浴中的金属的浓度。第一补料速率和第二补料速率以及蚀刻剂浴除去速率至少部分地基于从基底蚀刻的金属进入蚀刻剂浴的速率来确定。

主权项

一种将基底图案化的方法，该方法包括：提供包含金属化表面的基底，所述金属化表面具有抗蚀刻图案化的区域和未图案化的区域；使所述基底通过反应容器，其中所述反应容器包含：蚀刻剂浴，所述蚀刻剂浴包含氧化剂和金属络合剂；通过使所述金属化表面与所述氧化剂和金属络合剂接触以从所述未图案化的区域除去金属来在所述反应容器内湿法蚀刻所述基底；通过分别以第一补料速率和第二补料速率将所述氧化剂和金属络合剂中的每一种的补料递送到所述蚀刻剂浴来保持所述蚀刻剂浴中的所述氧化剂和金属络合剂的浓度；以及通过以蚀刻剂浴除去速率从所述反应容器排出一定量的所述蚀刻剂浴来保持所述蚀刻剂浴中的所述金属的浓度；其中所述第一补料速率和第二补料速率以及所述蚀刻剂浴除去速率至少部分地基于从所述基底蚀刻的金属进入所述蚀刻剂浴的速率来确定。