[发明专利]透明导电性薄膜无效
申请号: | 201280048596.1 | 申请日: | 2012-11-30 |
公开(公告)号: | CN103875042A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 中村元气;村上英生;多多见央;大谷寿幸 | 申请(专利权)人: | 东洋纺株式会社 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;B32B7/02;B32B9/00;C23C14/04;C23C14/08;C23C14/58 |
代理公司: | 上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙) 31257 | 代理人: | 董红曼 |
地址: | 日本大阪府大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种透明导电性薄膜,其具有低电阻且耐湿热性良好,并且通过将导电膜的膜厚抑制在一定厚度以下而使图案结构不明显。所述透明导电性薄膜,其以塑料薄膜为基材,包含透明导电性薄膜层而构成,其满足(1)~(4)的全部条件。(1)透明导电性薄膜层是含有5.5质量%以上、8质量%以下的氧化锡的晶体材料的铟-锡复合氧化物;(2)透明导电性薄膜层的膜厚在20nm以上、31nm以下;(3)透明导电性薄膜的表面电阻值在110Ω/□以下(4)在85℃、85%RH下保管240小时后的电阻值增加比例在1.2倍以下。 | ||
搜索关键词: | 透明 导电性 薄膜 | ||
【主权项】:
一种透明导电性薄膜,其以塑料薄膜为基材,包含透明导电性薄膜层而构成,其特征在于,满足(1)~(4)的全部条件,(1)透明导电性薄膜层为含有5.5质量%以上、8质量%以下的氧化锡晶体材料的铟‑锡复合氧化物;(2)透明导电性薄膜层的膜厚在20nm以上、31nm以下;(3)透明导电性薄膜的表面电阻值在110Ω/□以下;(4)在85℃、85%RH下保管240小时后的电阻值增加比例在1.2倍以下。
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