[发明专利]用于在低表面能基底上制造浮雕图案的环氧制剂和方法有效
| 申请号： | 201280049485.2 | 申请日： | 2012-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN103874731A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·J·纳夫罗茨基;杰里米·V·戈尔登;威廉·D·韦伯 | 申请（专利权）人： | 微量化学公司 |
| 主分类号： | C08L63/00 | 分类号： | C08L63/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;董文国 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及可用于在低表面能聚合物基底上制备负性色调永久性光致抗蚀剂浮雕图案的永久性环氧光致抗蚀剂组合物，其包含：（A）一种或更多种根据式I至VI的环氧树脂；（B）一种或更多种阳离子光引发剂；（C）一种或更多种铸膜溶剂和（D）一种或更多种含氟化合物。本发明还涉及使用所公开组合物在低表面能聚合物基底上形成永久性光致抗蚀剂浮雕图案的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表面 基底 制造 浮雕 图案 制剂 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在低表面能聚合物基底上制备负性色调永久性光致抗蚀剂浮雕图案的永久性环氧光致抗蚀剂组合物，其包含：（A）一种或更多种环氧树脂；（B）一种或更多种阳离子光引发剂；（C）一种或更多种铸膜溶剂；和（D）一种或更多种含氟化合物。
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