[发明专利]近红外遮蔽膜及近红外遮蔽体有效
| 申请号： | 201280050303.3 | 申请日： | 2012-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN104053546A | 公开（公告）日： | 2014-09-17 |
| 发明（设计）人： | 野岛隆彦 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/18 | 分类号： | B32B27/18;B32B7/02;G02B5/28 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供耐久性及膜柔软性优异、可见光透过率高、近红外遮蔽性优异的近红外遮蔽膜和设有该近红外遮蔽膜的近红外遮蔽体。本发明涉及一种近红外遮蔽膜和在基体的至少一面设置该近红外遮蔽膜而成的近红外遮蔽体，所述近红外遮蔽膜具有在基材上交替层叠含有第1水溶性高分子及第1金属氧化物粒子的高折射率层以及含有第2水溶性高分子及第2金属氧化物粒子的低折射率层而形成的光学干涉膜，其中，所述第1金属氧化物粒子为用含硅的水合氧化物被覆氧化钛粒子而成的粒子。 | ||
| 搜索关键词： | 红外 遮蔽 | ||
【主权项】：
一种近红外遮蔽膜，其为在基材上具有光学干涉膜的红外遮蔽膜，所述光学干涉膜为将含有第1水溶性高分子及第1金属氧化物粒子的高折射率层、以及含有第2水溶性高分子及第2金属氧化物粒子的低折射率层交替进行层叠而形成了的光学干涉膜，其中，所述第1金属氧化物粒子为用含硅的水合氧化物被覆了氧化钛粒子的粒子。
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