[发明专利]烧结工艺和设备无效
申请号: | 201280050641.7 | 申请日: | 2012-08-15 |
公开(公告)号: | CN103857482A | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | R·哈瑟维;R·威廉姆斯 | 申请(专利权)人: | 泽农公司 |
主分类号: | B22F7/00 | 分类号: | B22F7/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 马景辉 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 使用一系列低能光脉冲对目标进行预处理然后施加一个或多个较高能脉冲以烧结金属纳米粒子的两步脉冲灯烧结工艺。可以提供所述脉冲以使得纳米粒子不由所述低能脉冲烧结,但由所述高能脉冲烧结。 | ||
搜索关键词: | 烧结 工艺 设备 | ||
【主权项】:
一种方法,其包括∶用闪光灯向包括导电纳米粒子的印刷电路提供至少一个相对低能光脉冲;和在向所述印刷电路提供一个或多个相对低能光脉冲后,用闪光灯向具有导电纳米粒子的所述印刷电路提供一个或多个相对高能光脉冲以烧结所述导电纳米粒子,其中所述相对高能脉冲的能量水平是所述一个或多个低能脉冲中的每一者的能量的2倍到1000倍。
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