[发明专利]形成抗蚀剂下层膜的组合物所用的添加剂及包含该添加剂的形成抗蚀剂下层膜的组合物有效
| 申请号： | 201280051419.9 | 申请日： | 2012-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN103907060B | 公开（公告）日： | 2018-05-01 |
| 发明（设计）人： | 远藤贵文;坂本力丸;藤谷德昌 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08F20/36;C08F220/36 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 段承恩,田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题是使抗蚀剂下层膜上所形成的抗蚀剂图案与该抗蚀剂下层膜的密合性增大，此外抑制该抗蚀剂图案的底切形状。作为解决本发明课题的方法涉及由具有下述式(1)所示的结构单元的聚合物构成的形成抗蚀剂下层膜的组合物所用的添加剂，以及包含树脂粘合剂、有机溶剂和上述形成抗蚀剂下层膜的组合物所用的添加剂的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。(式中，R1表示氢原子或甲基，L表示二价的连接基团，X表示具有被叔丁氧基羰基保护了的氨基或被叔丁氧基羰基保护了的含氮杂环的酰氧基。)。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 抗蚀剂 下层 组合 所用 添加剂 包含 | ||
【主权项】：
一种形成抗蚀剂下层膜的组合物所用的添加剂，其由具有下述式(1)所示的结构单元的聚合物构成，式中，R1表示氢原子或甲基，L表示‑C(＝O)OR2‑基，R2表示碳原子数2～4的亚烷基，所述亚烷基的氢原子的一部分可以被羟基取代，X表示由下述式(a)～(j)表示的基团，
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