[发明专利]变迹宽带局部反射器有效
申请号: | 201280051656.5 | 申请日: | 2012-10-17 |
公开(公告)号: | CN103907035B | 公开(公告)日: | 2017-07-04 |
发明(设计)人: | 迈克尔·F·韦伯;蒂莫西·J·内维特;约翰·A·惠特利 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | G02B5/08 | 分类号: | G02B5/08;G02B5/30;G02B5/28;G02B27/14 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 陈源,崔利梅 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了一种宽带局部反射器,其包括多层聚合物光学膜,所述多层聚合物光学膜具有厚度值从所述多层聚合物光学膜的第一侧到第二侧单调地增加的一定总数的光学重复单元。基线光学重复单元厚度分布由第一多个光学重复单元限定并具有第一平均斜率,并且所述多层聚合物光学膜的第一变迹厚度分布由第二多个光学重复单元限定并具有第二平均斜率,所述第二平均斜率是所述第一平均斜率的至少5倍。所述第二多个光学重复单元限定所述多层聚合物光学膜的第一侧,并接合所述第一多个光学重复单元。所述第二多个光学重复单元在光学重复单元总数的3‑15%的范围内。 | ||
搜索关键词: | 宽带 局部 反射 | ||
【主权项】:
一种宽带局部反射器,包括:多层聚合物光学膜,其具有厚度值从所述多层聚合物光学膜的第一侧到第二侧单调地增加的一定总数的光学重复单元;基线光学重复单元厚度分布,其由第一多个光学重复单元限定并具有第一平均斜率;以及所述多层聚合物光学膜的第一变迹厚度分布,其由第二多个光学重复单元限定并具有第二平均斜率,所述第二平均斜率是所述第一平均斜率的至少5倍,其中所述第二多个光学重复单元限定所述多层聚合物光学膜的第一侧,并接合所述第一多个光学重复单元,所述第二多个光学重复单元在光学重复单元总数的3‑15%的范围内,其中所述变迹厚度分布表示以高的正斜率使得梯度层厚度分布终止的厚度分布特征。
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