[发明专利]热稳定的低双折射共聚聚酰亚胺膜在审
申请号: | 201280051850.3 | 申请日: | 2012-08-17 |
公开(公告)号: | CN103987763A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 孙立民;张东;景蛟凯;F·W·哈里斯 | 申请(专利权)人: | 阿克伦聚合物体系有限公司 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08G73/10;C08L79/08;C08J5/08;B32B17/04 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;唐瑞庭 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了一类耐溶剂的、柔性共聚聚酰亚胺基板,其在短暂暴露于300℃后仍保持高光学透明度(400nm-750nm,>80%),以及具有接近于零的双折射(<0.001)和约60ppm/℃的最大CTE。所述共聚聚酰亚胺由脂环族二酐、芳族环状二胺和包含自由的羧基的芳族二胺制备。所述基板由包含多官能环氧化物的共聚聚酰亚胺的溶液以单层膜、多层层压制品和玻璃纤维增强复合材料膜的形式制造。所述基板可以用于构建柔性光学显示器和其它需要它们独特性能组合的微电子和光伏器件。 | ||
搜索关键词: | 稳定 双折射 共聚 聚酰亚胺 | ||
【主权项】:
一种透明柔性膜,其特征在于:共聚聚酰亚胺;和多官能环氧化物,其中所述共聚聚酰亚胺由二酐和二胺的混合物制备,其中至少一种二酐是脂环族二酐,至少一种二胺是芳族环状二胺,和至少一种二胺是包含自由羧酸基团的芳族二胺,和其中所述膜是耐溶剂的。
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