[发明专利]研磨用组合物、使用了其的研磨方法和基板的制造方法有效
| 申请号： | 201280051935.1 | 申请日： | 2012-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN103890114A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 土屋公亮;森嘉男;高见信一郎;高桥修平 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304;B24B37/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨用组合物，其特征在于，其为含有磨粒、水溶性高分子、聚集抑制剂和水的研磨用组合物，在将前述研磨用组合物中存在的颗粒的平均粒径设为R1、将使前述磨粒分散在水中而使得与前述研磨用组合物中的磨粒的浓度相同时的磨粒的平均粒径设为R2的情况下，R1/R2为1.3以下。该研磨用组合物主要在研磨硅基板的表面的用途中使用。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 使用 方法 制造 | ||
【主权项】：
一种研磨用组合物，其特征在于，其为含有磨粒、水溶性高分子、聚集抑制剂和水的研磨用组合物，在将所述研磨用组合物中存在的颗粒的平均粒径设为R1、将使所述磨粒分散在水中而使得与所述研磨用组合物中的磨粒的浓度相同时的磨粒的平均粒径设为R2的情况下，R1/R2为1.3以下。
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