[发明专利]用于对准通过静电纺丝工艺沉积的纳米线的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201280052127.7 申请日: 2012-09-20
公开(公告)号: CN103906703A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 柯蒂斯·莱施克斯;史蒂文·韦尔韦贝克;罗伯特·维瑟 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: B82B3/00 分类号: B82B3/00;B82B1/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明的实施方式大体包括用于在电子纺丝工艺期间按照预定图案沉积纳米线的设备和方法。设备包括喷嘴和电压源,所述喷嘴用于容纳和喷射沉积材料,所述电压源耦接至所述喷嘴以喷射所述沉积材料。一个或更多个电场整形装置被安置以对靠近基板的电场整形,以控制所喷射的沉积材料的轨迹。所述电场整形装置使电场收敛于基板表面附近的点,以按照预定图案将沉积材料精确地沉积在基板上。所述方法包括以下步骤:施加电压到喷嘴以朝基板喷射带电的沉积材料,以及对一个或更多个电场整形以控制带电的沉积材料的轨迹。随后按照预定图案将所述沉积材料沉积在基板上。
搜索关键词: 用于 对准 通过 静电 纺丝 工艺 沉积 纳米 方法 设备
【主权项】:
一种用于在基板上静电纺丝材料的设备,所述设备包括:储存器,所述储存器用于容纳沉积材料;喷嘴,所述喷嘴与所述储存器流体连通;基板支架,所述基板支架被用于支撑靠近所述喷嘴的基板;电压源,所述电压源耦接到所述喷嘴以施加电势到所述喷嘴,从而从所述喷嘴喷射所述沉积材料;和电场整形装置,所述电场整形装置包括反电极,所述反电极被安置以对在所述基板与所述喷嘴之间的电场整形,所述电场整形装置被用于影响从所述喷嘴喷射的所述沉积材料的轨迹。
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