[发明专利]采用包含氟代烃的聚合物的高保真构图

摘要

在衬底上形成硬掩膜层、软掩膜层和光致抗蚀剂的叠层。对所述光致抗蚀剂进行构图以包括至少一个开口。通过各向异性蚀刻将所述图形转移到所述软掩膜层中，该各向异性蚀刻形成包含比氟多的碳的富碳聚合物。可以通过采用利用包含比氟多的氢的氟代烃分子产生的包含氟代烃的等离子体，形成所述富碳聚合物。所述富碳聚合物涂覆所述软掩膜层的侧壁，并且防止转移到所述软掩膜中的图形被加宽。随后去除所述光致抗蚀剂，并且将所述软掩膜层中的图形转移到所述硬掩膜层中。所述硬掩膜层的侧壁被所述富碳聚合物涂覆，以防止转移到所述硬掩膜中的图形被加宽。

主权项

一种形成构图的结构的方法，包括：形成叠层，所述叠层自下而上包括衬底、非碳基的硬掩膜层、包含碳基材料的软掩膜层、以及光致抗蚀剂；对所述光致抗蚀剂进行光刻构图；以及采用各向异性蚀刻将所述光致抗蚀剂中的图形转移到所述软掩膜层中，其中在所述软掩膜层的开口周围的侧壁上形成包含碳和氟的富碳聚合物，其中在所述富碳聚合物中碳与氟的原子比大于1。