[发明专利]用于发光装置图案的改良的掩蔽有效

专利信息
申请号: 201280052616.2 申请日: 2012-10-12
公开(公告)号: CN103890950B 公开(公告)日: 2017-05-03
发明(设计)人: H.施瓦布;R.A.弗莱格 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 景军平,汪扬
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种具有至少两个有源区域的发光装置和一种制造此装置的更稳健方法,其中通过掩模来沉积第一电极层(20)从而外涂有源材料(10)。以使得覆盖且延伸超出所述第一电极层(20)的区域外涂有有机材料的方式通过另一掩模来沉积第二有源材料(30)。接着,通过掩模涂布第二电极层(40),使得其外涂所述整个第二有源材料(30)。
搜索关键词: 用于 发光 装置 图案 改良 掩蔽
【主权项】:
一种发光装置,其包括:a)衬底(12),其包括由隔离区域(I)分离的第一阳极(A1)和第二阳极(A2);b)第一有源层,其布置在所述衬底(12)的顶部上且形成第一有源区域(10),所述第一有源区域覆盖所述第一阳极(A1)且延伸到所述隔离区域(I);c)第一电极层(20;50),其外涂所述第一有源区域(10)以形成适于发射第一颜色的光的第一二极管结构,构造所述第一电极层以形成透明的极间电极(50),所述第一电极层延伸到所述隔离区域而与所述第二阳极不接触;d)第二有源层,其外涂所述第一二极管结构使得其延伸超出所述第一二极管结构,并且形成覆盖所述第一阳极(A1)上方的所述极间电极(50)且跨越所述第二阳极(A2)延伸的第二有源区域(30;60),所述第二有源区域与所述第二阳极接触;以及e)第二电极层(40;70),其外涂所述第二有源区域(30)以形成适于发射第二颜色的光的第二二极管结构。
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