[发明专利]纳米复合负型光敏性组合物及其用途无效
| 申请号： | 201280052880.6 | 申请日： | 2012-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN103907057A | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 卢炳宏;陈春伟;S·梅耶 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/038;G03F7/40 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宓霞 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及适合于作为负型光致抗蚀剂成像式曝光和显影的负型光敏性组合物，所述组合物包含负型光致抗蚀剂组合物和具有等于或大于10纳米的平均粒子尺寸的无机颗粒材料，其中由所述组合物形成的光致抗蚀剂涂膜的厚度优选小于5μm。所述负型光致抗蚀剂组合物选自(1)包含如下组分的组合物：(i)树脂粘结剂、(ii)光酸产生剂和(iii)交联剂；或(2)包含如下组分的组合物：(i)树脂粘结剂、(ii)任选地，一种或多种可加成聚合的烯属不饱和化合物和(iii)光敏引发剂；或(3)包含如下组分的组合物：(i)含至少两个不饱和侧基的可光致聚合化合物；(ii)一种或多种烯属不饱和可光致聚合的聚氧化烯亲水性化合物和(iii)光敏引发剂。本发明还涉及使用所述新型光敏性组合物形成图像的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 复合 光敏 组合 及其 用途 | ||
【主权项】：
负型光敏性组合物，其包含负型光致抗蚀剂组合物和具有等于或小于10纳米的平均粒子尺寸的无机颗粒材料。
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