[发明专利]具有极性或活性金属基底的磺化嵌段共聚物层压体有效
申请号: | 201280053229.0 | 申请日: | 2012-10-03 |
公开(公告)号: | CN103998520A | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 谭葵田;C·L·威利斯 | 申请(专利权)人: | 科腾聚合物美国有限责任公司 |
主分类号: | C08L53/02 | 分类号: | C08L53/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 任宗华 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 层压极性基底与由具有至少一个端嵌段A和至少一个内嵌段B的磺化嵌段共聚物浇铸的薄膜的方法,其中每一A嵌段基本上不含磺酸或磺酸酯官能团,和每一B嵌段是含约10至约100mol%磺酸或磺酸酯官能团的聚合物嵌段,基于所述单体单元的数量。将所述薄膜暴露于水下并在极性或活性金属基底上干燥。所述层压体在水存在下没有脱层且可用于各种应用,其中包括能量交换应用中。 | ||
搜索关键词: | 具有 极性 活性 金属 基底 磺化 共聚物 层压 | ||
【主权项】:
一种层压基底的方法,该方法包括:提供含磺化嵌段共聚物的薄膜,将所述薄膜暴露于水下,和通过干燥所述薄膜,在基底的极性表面或金属表面上层压所述薄膜。
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