[发明专利]4-苄基-1-甲基-6-氧杂二环[3,2,0]庚烷衍生物的制造方法、以及唑类衍生物的制造方法有效
申请号: | 201280053420.5 | 申请日: | 2012-11-05 |
公开(公告)号: | CN103917537A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 菅野久 | 申请(专利权)人: | 株式会社吴羽 |
主分类号: | C07D405/06 | 分类号: | C07D405/06;C07D249/08 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 孙丽梅;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
为了收率更高地制造4-苄基-1-甲基-6-氧杂二环[3,2,0]庚烷衍生物,本发明提供一种通式(I)所示化合物的制造方法,包括:在具有酰氨基键的非质子性溶剂中,采用氢化物型还原剂将通式(II)所示化合物还原的步骤。 |
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搜索关键词: | 苄基 甲基 氧杂二环 庚烷 衍生物 制造 方法 以及 | ||
【主权项】:
下述通式(I)所示化合物的制造方法,
式(I)中,Y表示卤原子、碳数1~4的烷基、碳数1~4的卤代烷基、碳数1~4的烷氧基、碳数1~4的卤代烷氧基、或者苯基,m表示0~5的整数,在m为2以上的情况下,多个Y相互可以相同也可以不同,A表示氮原子或者次甲基,该制造方法的特征在于,包含这样的还原步骤:在具有酰氨基键的非质子性溶剂或者至少含有该非质子性溶剂的混合溶剂中,采用氢化物型还原剂将下述通式(II)所示化合物还原,
式(II)中,Y、m以及A分别与式(I)中的Y、m以及A相同,R3表示碳数1~3的烷基、碳数1~3的卤代烷基、可被取代的苯基或者可被取代的萘基。
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