[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组成物与膜、空白掩模、光阻图案形成方法及聚合化合物有效
| 申请号： | 201280053635.7 | 申请日： | 2012-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103907059B | 公开（公告）日： | 2018-01-30 |
| 发明（设计）人： | 土村智孝;滝沢裕雄 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;C08F212/02;G03F7/004;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据一个实施例，感光化射线性或感放射线性树脂组成物包括化合物(A)，化合物(A)含有含至少一个酚羟基的结构(P)以及含至少一个氢原子由具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)置换的酚羟基的结构(Q)，其中具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)为具有多环结构的基团或具有含羟甲基及/或烷氧基甲基的环状结构的基团。 | ||
| 搜索关键词： | 感光 射线 放射 线性 树脂 组成 空白 屏蔽 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，包括化合物(A)，所述化合物(A)含有含至少一个酚羟基的结构(P)以及含至少一个氢原子由具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)置换的酚羟基的结构(Q)，其中所述具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)为具有多环结构的基团或具有含羟甲基及/或烷氧基甲基的环状结构的基团，所述结构(P)为以下通式(I)的重复单元(p)中的任一者，其中R2表示氢原子、视情况经取代的甲基或卤素原子；B表示单键或二价有机基团；Ar表示芳环基团；以及m为1或大于1的整数。
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