[发明专利]绝缘体上半导体结构及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201280054537.5 申请日: 2012-11-02
公开(公告)号: CN103946969A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 安德鲁·约翰·布劳利 申请(专利权)人: 斯兰纳私人集团有限公司
主分类号: H01L21/76 分类号: H01L21/76;H01L21/20
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;张英
地址: 澳大利亚*** 国省代码: 澳大利亚;AU
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摘要: 一种绝缘体上半导体结构,包括半导体薄膜,该半导体薄膜具有形成在其中的电子器件,该半导体薄膜设置在电绝缘薄膜的第一面上;其中,为了减小寄生电容,不存在附着于电绝缘薄膜的与第一面相对的第二面的块体基板,并且为了对来自器件的热流提供路径,电绝缘薄膜的热导率基本上大于1.4W·m-1·K-1
搜索关键词: 绝缘体 上半 导体 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种绝缘体上半导体结构,包括半导体薄膜,所述半导体薄膜具有形成在其中的电子器件,所述半导体薄膜设置在电绝缘薄膜的第一面上;其中,为了降低寄生电容,不存在附着于所述电绝缘薄膜的与所述第一面相对的第二面的块体基板,并且为了对来自所述器件的热流提供路径,所述电绝缘薄膜的热导率为基本上大于1.4W·m‑1·K‑1
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