[发明专利]粒子射线治疗系统及其射束位置校正方法有效
| 申请号： | 201280054629.3 | 申请日： | 2012-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN103917274A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 花川和之;菅原贤悟;小田原周平;原田久;池田昌广;大谷利宏;本田泰三;吉田克久 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10;G21K5/04;H05H7/04;H05H13/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 俞丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的粒子射线治疗系统包括对带电粒子射束进行加速的加速器系统、以及将从该加速器射出的高能量射束输送到照射位置的射束输送系统，所述射束输送系统中具备至少一个转向电磁铁和与该转向电磁铁相对应的至少一个射束位置监视器，所述射束位置监视器向所述转向电磁铁提供对周期性变动的射束位置进行校正的励磁电流。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子 射线 治疗 系统 及其 位置 校正 方法 | ||
【主权项】：
一种粒子射线治疗系统，包括对带电粒子射束进行加速的加速器系统、以及将从该加速器射出的高能量射束输送到照射位置的射束输送系统，其特征在于，所述射束输送系统中具备至少一个转向电磁铁和与该转向电磁铁相对应的至少一个射束位置监视器，所述射束位置监视器向所述转向电磁铁提供对周期性变动的射束位置进行校正的励磁电流。
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