[发明专利]压力存储器有效
| 申请号： | 201280054798.7 | 申请日： | 2012-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN103946620A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | H·巴尔特斯;P·克洛夫特 | 申请（专利权）人： | 贺德克技术有限公司 |
| 主分类号： | F17C1/00 | 分类号： | F17C1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 闫娜 |
| 地址： | 德国苏尔茨*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种压力存储器，包括至少一个存储器壳体(103)，所述存储器壳体具有用于尤其是流体形式的压力介质(149)的至少一个接口(111；113)，所述压力介质可存储于存储器壳体(103)中，在存储器壳体(103)中至少部分地加入填料(119)，所述填料具有空腔或形成至少一个空腔用于至少部分地接纳压力介质(149)，其特征在于，存储器壳体(103)的内部(117)完全被填料(119)填充，从而填料(119)全表面地与存储器壳体(103)的壁(120)接触。 | ||
| 搜索关键词： | 压力 存储器 | ||
【主权项】：
一种压力存储器，包括至少一个存储器壳体(103)，所述存储器壳体具有用于尤其是流体形式的压力介质(149)的至少一个接口(111；113)，所述压力介质能够存储于存储器壳体(103)中，在存储器壳体(103)中至少部分地加入填料(119)，所述填料具有空腔或形成至少一个空腔用于至少部分地接纳压力介质(149)，其特征在于，所述存储器壳体(103)的内部(117)完全被填料(119)填充，从而填料(119)全表面地与存储器壳体(103)的壁(120)接触。
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