[发明专利]杂化光致抗蚀剂组合物和使用它的图案形成方法

摘要

本发明涉及改进分辨率的杂化光致抗蚀剂组合物和使用该光致抗蚀剂组合物的图案形成方法。所述光致抗蚀剂组合物包括辐射敏感性酸产生剂、交联剂和具有疏水性单体单元和含羟基的亲水性单体单元的聚合物。所述羟基中的至少一些用具有低活化能的酸不稳定性结构部分保护。所述光致抗蚀剂能够对单一曝光产生杂化响应。所述图案形成方法利用所述杂化响应以在所述光致抗蚀剂层中形成图案化的结构。本发明的光致抗蚀剂组合物和图案形成方法可用于印刷具有精确图像控制的小特征，尤其是小尺寸的空间。

主权项

光致抗蚀剂组合物，其包含：辐射敏感性酸产生剂，其含量为1‑15wt％，基于聚合物的总重量计；交联剂，其含量为2‑15wt％，基于聚合物的总重量计；和具有疏水性单体单元和含羟基的亲水性单体单元的聚合物，其中所述羟基中的至少一些用具有低活化能的酸不稳定性结构部分保护，并且其中所述光致抗蚀剂能够对单一曝光产生杂化响应，使得：所述光致抗蚀剂的在所述单一曝光过程中未曝光的第一部分不溶于显影剂；所述光致抗蚀剂的暴露于所述单一曝光的第一光化能量水平的第二部分也不溶于所述显影剂；和所述光致抗蚀剂的在所述单一曝光过程中暴露于比所述第一光化能量水平小的第二光化能量水平的第三部分变得可溶于所述显影剂，其中所述疏水性单体单元在所述聚合物中的浓度为7摩尔％‑60摩尔％，其中7摩尔％‑100摩尔％的所述羟基被所述酸不稳定性结构部分保护，其中所述疏水性单体单元衍生自选自下组的单体：并且其中所述亲水性单体单元衍生自选自下组的单体：其中X表示具有1‑12个碳的线性或支化脂族链或1‑10个碳的环状脂族环。