[发明专利]用于监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法有效
申请号: | 201280055872.7 | 申请日: | 2012-09-28 |
公开(公告)号: | CN103930972B | 公开(公告)日: | 2017-01-18 |
发明(设计)人: | 巴拉拉贝·N·穆罕默德;约翰·W·莱恩;麻里乌斯·格雷戈尔;丹·约瑟夫·希利 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/205 | 分类号: | H01L21/205;H01L21/66 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人: | 徐金国,赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 在此提供用于流量控制器的原位校正的方法和设备。在一些实施例中,流动气体的方法包含以下步骤提供流量控制器,所述流量控制器经配置以基于计算出的第一关系,提供具有第一数值的流量的第一气体,所述第一关系通过使用标准气体来确定;从处于流量控制器的相对应的多个数值的设定点而确定的第一气体的多个数值的流量中,确定对于第一气体的流量和设定点之间的实际的第一关系,其中所述多个数值的每一数值的流量从将第一气体流动经过处在所述多个数值的相对应的数值的设定点的流量控制器来确定;及基于实际的第一关系,利用第一数值的流量流动第一气体。 | ||
搜索关键词: | 用于 监控 耦合 处理 流量 控制器 方法 | ||
【主权项】:
一种监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法,包含以下步骤:在所述流量控制器处于第一流量的情况下,在第一时间处监控:所述流量控制器的第一参数或所述处理腔室的第二参数的至少一个的第一数值;在所述流量控制器处于所述第一流量的情况下,在所述第一时间之后的第二时间处监控:所述流量控制器的所述第一参数或所述处理腔室的所述第二参数的所述至少一个的第二数值;及从所述第一数值和所述第二数值的比较中,确定所述流量控制器或所述处理腔室的部件的至少一个的状态。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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