[发明专利]渗漏稳定性气体分离膜系统的制备或修复方法有效

专利信息
申请号: 201280055953.7 申请日: 2012-11-14
公开(公告)号: CN103945917A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: J·C·索凯蒂斯 申请(专利权)人: 国际壳牌研究有限公司
主分类号: B01D53/22 分类号: B01D53/22;B01D65/10;B01D71/02;B01D67/00;C01B3/50
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈文平
地址: 荷兰*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 制造气体分离膜的方法,所述方法通过提供具有一定体积的气体选择性金属离子镀液的镀敷容器,其中放入多孔载体。所述镀液在所述多孔载体的表面上循环,同时保持所述镀敷容器内的条件从而促进无电沉积。镀液的循环速率使得在所述气体分离膜形成中提高所述金属沉积到所述多孔载体的表面上。
搜索关键词: 渗漏 稳定性 气体 分离 系统 制备 修复 方法
【主权项】:
制造气体分离膜的方法,其中所述方法包括:(a)提供镀敷容器,所述容器包含一定体积的具有一定浓度的气体选择性金属离子的镀液;(b)将多孔载体放入所述镀液中,所述多孔载体具有第一表面和第二表面,每个所述表面与另一个相对从而限定载体厚度,并由此将所述第一表面与所述镀液接触一定时间段,同时保持所述镀敷容器内的镀敷条件从而促进所述气体选择性金属离子从所述镀液中无电沉积到所述多孔载体的所述第一表面上,使得由此在所述镀液内产生所述气体选择性金属离子的浓度分布,所述浓度分布从所述第一表面向离开所述第一表面的距离点延伸,在所述距离点处所述浓度分布的导数接近于零;和(c)所述镀液以使得所述距离点明显缩短的循环速率通过所述镀敷容器循环;由此所述气体选择性金属的膜层沉积在所述第一表面上,从而提供负载膜。
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