[发明专利]基于碳SiOC的碱金属阻挡层有效

专利信息
申请号: 201280056372.5 申请日: 2012-11-14
公开(公告)号: CN103974918A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: C·图马泽;M·梅尔赫;A·于尼亚尔;R·兰特 申请(专利权)人: 法国圣戈班玻璃厂
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34;C23C16/40
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 黄念;林森
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种包括透明玻璃基材和透明碳氧化硅(SiOxCy)层的窗玻璃,其中所述透明玻璃基材含有至少一种碱金属的离子,所述透明碳氧化硅(SiOxCy)层具有总厚度E并且具有:(a)从深度P3延伸到深度P4的富碳的深区域,其中C/Si原子比大于或等于0.5,及(b)从深度P1延伸到深度P2的贫碳的浅表区域,其中C/Si原子比小于或等于0.4,其中P1<P2<P3<P4,和(P2-P1)+(P4-P3)<E,在P1和P2之间的距离是碳氧化硅层的总厚度E的10%-70%,在P3和P4之间的距离是碳氧化硅层的总厚度E的10%-70%。
搜索关键词: 基于 sioc 碱金属 阻挡
【主权项】:
包括透明玻璃基材和透明碳氧化硅(SiOxCy)层的窗玻璃,其中所述透明玻璃基材含有至少一种碱金属的离子,所述透明碳氧化硅(SiOxCy)层具有总厚度E并且具有(a)富碳的深区域,其从深度P3延伸到深度P4,其中C/Si原子比大于或等于0.5,及(b)贫碳的浅表区域,其从深度P1延伸到深度P2,其中C/Si原子比小于或等于0.4,以及P1<P2<P3<P4,和(P2‑P1)+(P4‑P3)<E,在P1和P2之间的距离是碳氧化硅层的总厚度E的10%‑70%,和在P3和P4之间的距离是碳氧化硅层的总厚度E的10%‑70%。
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