[发明专利]分布式多区等离子体源的系统、方法及设备

摘要

本发明涉及分布式多区等离子体源的系统、方法及设备。应当理解的是，本发明可以实施为多种方式，包括过程、装置、系统、计算机可读介质或设备。以下描述本发明的一些创造性实施例。一个实施例提供了一种包括在处理室顶部的多个等离子体源的处理室。所述等离子体源中的每一个是包括一次绕组和多个铁氧体的环形等离子体源。多个等离子体室出口可以将所述多个等离子体源中的每一个的等离子体室耦合到所述处理室。

主权项

一种处理室，其包括：处理室顶部内的多个等离子体源，其中所述等离子体源中的每一个是环形等离子体源，并且每个环形等离子体源包括：环形等离子体室；围绕所述环形等离子体室的外部的一次绕组；以及设置在所述环形等离子体室周围的多个铁氧体，使得所述多个等离子体源中的每一个的所述环形等离子体室穿过对应的所述多个铁氧体中的每一个；其中所述多个等离子体源被设置成同心布置的内环形等离子体源和外环形等离子体源，所述外环形等离子体源围绕所述内环形等离子体源；其中所述多个等离子体源中的每一个以一定分隔距离与所述多个等离子体源中的相邻等离子体源分开；其中所述内环形等离子体源的所述多个铁氧体的外边缘与所述外环形等离子体源的所述多个铁氧体的内边缘的一部分重叠；多个等离子体室出口，所述多个等离子体室出口将所述多个等离子体源中的每一个的等离子体室耦合到所述处理室。