[发明专利]抛光垫无效
申请号: | 201280057045.1 | 申请日: | 2012-12-14 |
公开(公告)号: | CN103958125A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 清水绅司 | 申请(专利权)人: | 东洋橡胶工业株式会社 |
主分类号: | B24B37/24 | 分类号: | B24B37/24;C08G18/00;H01L21/304 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 钟守期;苏萌 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供不易在被抛光材料的表面产生刮痕且提高了修整性的抛光垫。另外,本发明的目的还在于提供使用该抛光垫的半导体器件的制造方法。本发明的抛光垫具有由具有微细气泡的聚氨酯树脂发泡体构成的抛光层,且所述聚氨酯树脂发泡体包含ASKER D硬度为20-60度且由下式表示的磨耗参数为1-3的聚氨酯树脂:磨耗参数={1/(拉伸断裂强度[MPa]×拉伸断裂伸长率[%]/100)}×100。 | ||
搜索关键词: | 抛光 | ||
【主权项】:
一种抛光垫,其具有由具有微细气泡的聚氨酯树脂发泡体构成的抛光层,其特征在于,所述聚氨酯树脂发泡体包含ASKER D硬度为20‑60度且由下式表示的磨耗参数为1‑3的聚氨脂树脂:磨耗参数={1/(拉伸断裂强度[MPa]×拉伸断裂伸长率[%]/100)}×100。
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