[发明专利]用于分配低温流体射流的包括稳定室的装置无效
| 申请号： | 201280057277.7 | 申请日： | 2012-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN103958127A | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | J·坎塔尔;F·里查德;C·特鲁朔 | 申请（专利权）人： | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 |
| 主分类号： | B24C1/00 | 分类号： | B24C1/00;B24C1/08 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 牛晓玲;吴鹏 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于分配一股或多股低温流体射流(6)的装置，该装置包括流体供给管道(1)，该流体供给管道向布置于所述管道下游的一个或多个流体分配喷嘴(5)进行供给，其中所述流体供给管道(1)的流体流动截面具有第一直径(d)。根据本发明，用于分配一股或多股低温流体射流的装置还包括设置在流体供给管道(1)和流体分配喷嘴(5)之间的至少一个稳定室(4)，该稳定室流体连接至所述流体供给管道(1)和所述喷嘴(5)两者。每个稳定室的流体流动截面具有大于流体供给管道(1)的流体流动截面的第一直径(d)的第二直径(D)。本发明还涉及使用一股或多股低温流体射流的相关联的处理单元。本发明还涉及利用本发明的装置执行作业操作的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 分配 低温 流体 射流 包括 稳定 装置 | ||
【主权项】：
一种用于分配一股或多股低温流体射流(6)的装置，该装置包括流体供给管道(1)，所述流体供给管道(1)用于供给布置在所述管道下游的一个或多个流体分配喷嘴(5)，所述流体供给管道(1)包括具有第一直径(d)的流体流动截面，其特征在于，所述装置还包括设置在流体供给管道(1)和流体分配喷嘴(5)之间的至少一个稳定室(4)，所述稳定室流体连接至所述流体供给管道(1)和流体分配喷嘴(5)，每个具有流体流动截面的稳定室具有大于流体供给管道(1)的流体流动截面的第一直径(d)的第二直径(D)。
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