[发明专利]腐蚀抑制

摘要

本发明涉及抑制由腐蚀性流体引起的腐蚀的方法，并且更具体涉及抑制金属表面腐蚀。所述方法包括向腐蚀性流体加入具体选择的离子液体，所述离子液体以基于腐蚀性流体的总重量的有效减轻或缓解腐蚀的量加入。

主权项

一种抑制与腐蚀性流体接触的金属表面的腐蚀的钝化方法，所述方法包括：在使所述金属表面与所述腐蚀性流体接触之前，在所述金属表面上形成离子液体的掺杂剂层，所述离子液体具有下式：[Cat+][X‑‑Z‑Bas]其中：[Cat+]表示一种或多种阳离子物种；[X‑‑Z‑Bas]表示一种或多种阴离子物种，其中：X‑表示阴离子部分；Z是将X‑与Bas连接的共价键，或二价连接基团；并且Bas是碱性部分，其中Bas选自‑N(R1)(R2)、‑P(R1)(R2)、‑S(R1)和‑O(R3)，其中R1、R2和R3独立地选自直链或支链的(C1至C8)烷基、(C1至C8)环烷基、(C6至C10)芳基、(C6至C10)芳烷基和(C6至C10)取代芳基，并且R1和R2还独立地为氢，或者R1和R2以及所连接的氮或磷原子形成杂环的一部分，并且其中[X‑‑Z‑Bas]不包括丙氨酸根、精氨酸根和天冬酰胺根；并且其中[Cat+]包括选自下列各项的阳离子物种或由其组成：式中：Ra选自C2至C10直链或支链烷基；Rg选自C1至C10直链或支链烷基；Ra和Rg中的一个被羟基、甲氧基或乙氧基取代；并且Rb、Rc、Rd、Re和Rf各自独立选自氢和C1至C5直链或支链烷基；或者，[Cat+]包括选自下列各项的非环状阳离子或由其组成：[N(Ra)(Rb)(Rc)(Rd)]+、[P(Ra)(Rb)(Rc)(Rd)]+和[S(Ra)(Rb)(Rc)]+，式中：Ra选自C2至C14直链或支链烷基；Rb、Rc和Rd独立地选自C1至C10直链或支链烷基；并且Ra、Rb、Rc和Rd各自是未取代的或被羟基、甲氧基或乙氧基取代。