[发明专利]包含残留屏障膜的抗菌成分在审

专利信息
申请号: 201280058237.4 申请日: 2012-11-28
公开(公告)号: CN103957955A 公开(公告)日: 2014-07-30
发明(设计)人: P·O·滕尼肯 申请(专利权)人: 希普罗特克有限公司
主分类号: A61L31/14 分类号: A61L31/14;A61L29/14;A61L101/22;A61L101/32;A61L101/34
代理公司: 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 代理人: 梁栋
地址: 美国华*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本公开描述了示例性抗菌成分,所述抗菌成分可以与IV端口清洁帽、保护帽或鼻部去殖器装置结合起来使用。根据其它实施,本公开描述了所述抗菌成分通过在正被清洁的表面上发泡或起泡沫可以提供其与污染物发生接触的指示。根据其它实施,本公开描述了抗菌成分可以留下残留的膜或屏障,用来抑制已被清洁的表面的再污染。
搜索关键词: 包含 残留 屏障 抗菌 成分
【主权项】:
一种方法,包括:识别要被去污的表面;将医疗涂抹器应用于所述表面,其中,所述医疗涂抹器包括:帽装置,所述帽装置包括圆柱形的腔,所述圆柱形的腔具有泡沫状插入物;或包括储液器的鼻部去殖器装置;以及抗菌成分,所述抗菌成分在所述帽装置的泡沫状插入物内或所述鼻部去殖器装置的储液器内,其中,所述抗菌成分包括水、酒精、过氧化物或过氧化物生成剂、以及螯合剂;以及接收所述抗菌成分与所述表面上的一个或多个污染物接触的指示。
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