[发明专利]液晶取向膜的制造方法、液晶取向膜及液晶显示元件有效
| 申请号： | 201280058353.6 | 申请日： | 2012-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103959152B | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 后藤耕平;川月喜弘;近藤瑞穗;安藤昌幸;北川大桂夫;椿幸树 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社;大阪有机化学工业株式会社;公立大学法人兵库县立大学 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;C08F20/30 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 胡烨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种不通过摩擦就能高效地向膜中引入各向异性的液晶取向膜的制造方法，提供一种液晶取向膜和液晶显示元件。液晶取向膜的制造方法包括：[I]在基板上形成在规定的温度范围内体现出液晶性的感光性的侧链型高分子膜的工序；[II]对所述侧链型高分子膜照射偏振紫外线的工序；以及[III]对经所述紫外线照射的侧链型高分子膜加热的工序；其特征在于，[II]工序的紫外线照射量在ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内，ΔA是所述侧链型高分子膜的、与所述偏振紫外线的偏振方向平行的方向的紫外线吸光度和与所述偏振紫外线的偏振方向垂直的方向的紫外线吸光度之差。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 取向 制造 方法 液晶显示 元件 | ||
【主权项】：
一种液晶取向膜的制造方法，其包括：[I]在基板上形成在规定的温度范围内体现出液晶性的感光性的侧链型高分子膜的工序；[II]对所述侧链型高分子膜照射偏振紫外线的工序；以及[III]对经所述紫外线照射的侧链型高分子膜加热的工序；其特征在于，[II]工序的紫外线照射量在ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内，ΔA是所述侧链型高分子膜的与所述偏振紫外线的偏振方向平行的方向的紫外线吸光度和所述侧链型高分子膜的与所述偏振紫外线的偏振方向垂直的方向的紫外线吸光度之差。
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