[发明专利]以硬质材料覆层的,由金属、硬质金属、金属陶瓷或陶瓷制成的体以及制造这种体的方法有效
申请号: | 201280059368.4 | 申请日: | 2012-11-28 |
公开(公告)号: | CN103987874B | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 因戈尔夫·恩德勒;塞巴斯蒂安·斯科尔茨 | 申请(专利权)人: | 弗朗霍夫应用科学研究促进协会 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/36;C23C28/04 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 李楠;安翔 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的主题是一种以硬质材料覆层的,由金属、硬质金属、金属陶瓷或陶瓷制成的体,其以TiSiCN复合材料层或含有至少一个TiSiCN复合材料层的多层层体系覆层,其中,根据本发明,TiSiCN复合材料层是借助热化学气相沉积方法而不附加等离子体激发地制造的纳米复合材料层,其含有由带有在5nm和150nm之间的微晶尺寸的TiCxN1‑x组成的纳米晶相以及由非晶的SiCxNy组成的第二相。根据本发明的层的突出之处在于高硬度、高氧化耐受性和温度耐受性以及高粘附性。为了制造这种TiSiCN纳米复合材料层,本发明包含一种方法,其中,该层在含有一种或多种卤化钛、一种或多种含硅前体、氢、以及带有碳原子和氮原子的反应性化合物和/或氮化合物和/或碳氢化合物和/或惰性气体的气体混合物中通过热化学气相沉积工艺在700℃和1100℃之间的温度并且在10Pa和101.3kPa之间的压力下不附加等离子体激发地沉积,其中,卤化钛和含硅前体的摩尔比例选择为,使得在气体混合物中Si与Ti的原子比例大于1。根据本发明的方法使得在工业条件下也能够成本低廉地生产这种类型的覆层。 | ||
搜索关键词: | 硬质 材料 覆层 金属 金属陶瓷 陶瓷 制成 以及 制造 这种 方法 | ||
【主权项】:
一种以硬质材料覆层的体,所述体由金属、硬质金属、金属陶瓷或陶瓷制成,所述体以TiSiCN复合材料层或含有至少一个TiSiCN复合材料层的多层层体系覆层,其特征在于,所述TiSiCN复合材料层是借助热化学气相沉积方法而不附加等离子体激发地制造的纳米复合材料层,其具有小于1原子%的卤素含量以及小于4原子%的氧含量,所述纳米复合材料层含有由带有在5nm和150nm之间的微晶尺寸的TiCxN1‑x组成的纳米晶相,其中0.1≤x≤0.99,以及由非晶的SiCxNy组成的第二相。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于弗朗霍夫应用科学研究促进协会,未经弗朗霍夫应用科学研究促进协会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280059368.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种瓷砖自动包装生产线用的送与切珍珠棉装置
- 下一篇:一种保健梳
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的