[发明专利]半导体晶片加工用粘合片及使用了该粘合片的半导体晶片的加工方法有效

专利信息
申请号: 201280059971.2 申请日: 2012-12-05
公开(公告)号: CN103975421A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 富永知亲;阿久津高志 申请(专利权)人: 琳得科株式会社
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;C09J7/02;C09J201/02;H01L21/301
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 刘宗杰;巩克栋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种可以作为再剥离型BG片等优选使用的晶片加工用粘合片,其满足如下所述的特性,即,(1)以不会过弱的粘附力在研磨时保护具有凹凸的电路面,(2)加工后的再剥离容易,(3)晶片上的粘附物残渣少。本发明的晶片加工用粘合片,其特征在于,具有基材和形成于该基材上的粘合剂层,该粘合剂层包含粘附性高分子(A)及直链状分子贯穿至少2个环状分子的开口部且在所述直链状分子的两个末端具有封端基而成的聚轮烷(B),粘附性高分子(A)与聚轮烷(B)的环状分子结合而形成交联结构。
搜索关键词: 半导体 晶片 工用 粘合 使用 加工 方法
【主权项】:
一种晶片加工用粘合片,具有基材和形成于该基材上的粘合剂层,该粘合剂层包含粘附性高分子(A)及直链状分子贯穿至少2个环状分子的开口部且在所述直链状分子的两个末端具有封端基而成的聚轮烷(B),粘附性高分子(A)与聚轮烷(B)的环状分子结合而形成交联结构。
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