[发明专利]激光热转印用聚酰亚胺光敏性组合物有效
申请号: | 201280060276.8 | 申请日: | 2012-11-29 |
公开(公告)号: | CN103975275B | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 金炳郁;尹赫敏;金东明;金镇祐;黄致容 | 申请(专利权)人: | 东进世美肯株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/00;H01L51/50 |
代理公司: | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人: | 朱健 |
地址: | 韩国仁川市*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种激光热转印用聚酰亚胺光敏性组合物,更详细地讲,涉及在形成OLED的绝缘膜中,在适用于激光热转印法(laser induced thermal imaging,LITI)时,可形成双锥形,且脱模性(anti‑stiction)优良的聚酰亚胺光敏性组合物。 | ||
搜索关键词: | 光敏性组合物 聚酰亚胺 激光 热转印 热转印法 绝缘膜 双锥形 脱模性 | ||
【主权项】:
1.一种激光热转印用聚酰亚胺光敏性组合物,其特征在于,包含聚酰亚胺前体、羟基苯乙烯高分子、光敏化合物、以及溶剂,上述聚酰亚胺前体含有1,3-双(3-氨丙基)四甲基二硅氧烷(SiDA)作为二胺类单体;或者,含有N-2(氨乙基)3-氨丙基三甲氧基硅烷(KBM-603)作为胺类单体;或者,含有3-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷(GPTS)作为保护基;上述聚酰亚胺前体由下述化学式1所示︰化学式1 在上述化学式1中,X为4价有机基;R分别独立为作为保护基的环氧环己基甲基丙烯酸甲酯(ECMMA)或3-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷(GPTS);n为3~100,000的整数;上述Y中的3~50摩尔%是用1,3-双(3-氨丙基)四甲基二硅氧烷(SiDA)或N-2(氨乙基)3-氨丙基三甲氧基硅烷(KBM-603)衍生的有机基;上述R是环氧环己基甲基丙烯酸甲酯(ECMMA)︰3-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷(GPTS)的比率以摩尔比计为80~99︰1~20。
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