[发明专利]基板处理系统和方法

摘要

一种用于处理基板的系统具有真空外壳和定位成处理在真空外壳内部的处理区中的晶片的处理室。提供两个轨道组件，一个轨道组件在处理区的每侧上。两个卡盘阵列每个在轨道组件之一骑行上，使得每个卡盘阵列在一个轨道组件上悬臂式伸展并支撑多个卡盘。轨道组件耦合到升高机构，其将轨道放置在用于处理的较高的位置上以及放置在用于返回卡盘组件的较低的位置处用于装载新晶片。拾取头组件将晶片从输送机装载到卡盘组件上。拾取头具有从晶片的正侧拾取晶片的多个静电卡盘。在处理卡盘中的冷却通道用于产生气垫以在由拾取头输送时帮助使晶片对齐。

主权项

一种基板处理系统，包括：处理室，其限定处理区；第一卡盘阵列，其耦合到被安置于第一侧上的第一运送机构，其中所述第一卡盘阵列被配置成能够在所述第一运送机构上线性地来回移动；第二卡盘阵列，其耦合到被安置于与所述第一侧相对的第二侧上的第二运送机构，其中所述第二卡盘阵列被配置成能够在所述第二运送机构上线性地来回移动；并且其中，所述第一运送机构和所述第二运送机构中的每个被配置成在高度方向上能够移动以使所述第一卡盘阵列和所述第二卡盘阵列中的一个能够在所述第一卡盘阵列和所述第二卡盘阵列中的另一个之下通过。